Targed Sputtering Alwminiwm Titaniwm

Disgrifiad Targed Sputtering Alwminiwm Titaniwm

Mae'r targed sputtering yn cyfeirio at y deunydd crai a ddefnyddir yn y broses dyddodi sputtering, sy'n cyfeirio at y broses o ollwng atomau o'r targed solet oherwydd bod gronynnau ynni uchel yn peledu'r targed, a'i brif swyddogaeth yw adneuo ffilm denau ar y gwrthrych. Mae Targed Sputtering Alwminiwm Titaniwm yn darged a ddefnyddir yn gyffredin iawn, y gellir ei gynhyrchu trwy ddull castio a dull gwasgu isostatig poeth. Y broses benodol yw: toddi'r deunydd metel yn gyntaf, yna ei arllwys i mewn i fowld i ffurfio ingot, ac yna ei ffugio, Wedi'i rolio, ei sinterio a'i sgleinio. Yn gyffredinol, defnyddir Targedau Sputtering Alwminiwm Titaniwm ar gyfer haenau addurniadol, a all adneuo ffilmiau â chaledwch da, disgleirdeb uchel, ymwrthedd cyrydiad, ymwrthedd ocsideiddio, a gwrthiant pylu da. Os oes angen, gallwn ddarparu Targedau Sputtering Alwminiwm Titaniwm ynghyd â phlât swbstrad copr, gallwch gysylltu â ni trwy e-bost.

Targed Sputtering Alwminiwm TitaniwmManylebau:

Darluniau Targed Sputtering Alwminiwm Titaniwm:

Tagiau poblogaidd: targed sputtering alwminiwm titaniwm, cyflenwyr, gweithgynhyrchwyr, ffatri, addasu, cyfanwerthu, pris, dyfynbris, ar werth